各种金相试样及零部件、仪器、仪表的精密研磨及抛光，经研磨抛光后能快速达到理想的光洁度。

  晶粒尺寸微细、晶型完好；

   比重大，具有良好的分散性；

   比表面积大，适合于镜面精抛光用途；                       
   适用性强，每次只需1克左右既可完成一次标本样品的镜面抛光处理；

  实验操作简单，只需与抛光布配套使用；
 
  常规级别：W0.5~W10    

  纳米级别：W0.01～W0.1